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| 晶圆缺陷检测设备-氮气AOI | WIE100 |
| 产品描述 | 该产品为全自动/半自动外观检测系统,该设备针对化合物半导体晶圆外延工艺过程中产生的缺陷检测(包括划伤、凸起、凹坑、颗粒、脏污、异色等等) |
| 应用 | 1、外延厂对衬底晶圆的来料检验 2、外延后制程品质管控检验 |
| 检测方式 | 非接触视觉自动检测 |
| 适用产品 | GaAs, GaSb, InP衬底和外延有图形及无图形的表面缺陷 |
| 相机规格 | 4K5um线扫相机 |
| 物镜倍率 | 20X |
| 像素解析度 | 0.25μm |
| 检测精度 | 1μm |